Open Nav

溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响

以下是资料介绍,如需要完整的请充值下载.
1.无需注册登录,支付后按照提示操作即可获取该资料.
2.资料以网页介绍的为准,下载后不会有水印.仅供学习参考之用.
   帮助中心
资料介绍:

溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响(中文3100字,英文pdf)                               
摘要 采用直流反应磁控溅射技术制备了五氧化二钽薄膜,并对其进行了快速退火热处理。研究了溅射气压和退火温度对五氧化二钽的表面性能,微观结构和光学性能的影响。制备的Ta2O5薄膜为非晶结构,经过800 oC退火处理后,变为六方相结构的δ- Ta2O5。若退火温度为900-1000 oC则从六方相转变为正交相。在低温下退火氧化钽的表面粗糙度会降低。退火温度增加氧化钽薄膜的消光系数和折射率会随之下降。
关键词:五氧化二钽薄膜;直流反应磁控溅射;溅射气压;快速热退火
  [资料来源:http://Doc163.com]

溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响

 

[来源:http://www.doc163.com]

  • 关于资料
    提供的资料属本站所有,真实可靠,确保下载的内容与网页资料介绍一致.
  • 如何下载
    提供下载链接或发送至您的邮箱,资料可重复发送,若未收到请联系客服.
  • 疑难帮助
    下载后提供一定的帮助,收到资料后若有疑难问题,可联系客服提供帮助.
  • 关于服务
    确保下载的资料和介绍一致,如核实与资料介绍不符,可申请售后.
  • 资料仅供参考和学习交流之用,请勿做其他非法用途,转载必究,如有侵犯您的权利或有损您的利益,请联系本站,经查实我们会立即进行修正! 版权所有,严禁转载
    doc163.com Copyright © 2010-2021 苏ICP备2021029856号-4